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GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。本機能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導(dǎo)體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達20℃/s ；溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設(shè)有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉(zhuǎn)擋板，當(dāng)其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實現(xiàn)對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想
GSL-1800X-ZF-AM連續(xù)式多腔室蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一款高真空的可連續(xù)進樣的蒸發(fā)鍍膜儀，主要由傳遞室和蒸發(fā)鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復(fù)運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復(fù)位置和運動速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復(fù)位。特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀可對樣品進行鍍碳處理，可處理的樣品直徑可達50mm，真空度可達到10-2torr，適合用于實驗室對小樣品進行表面的蒸碳鍍膜使用
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